中新社北京五月三十日电 (记者 孙自法)来自美国、法国、韩国、泰国等国驻华使领馆官员以及微软、英特尔、IBM、本田等多个在华企业的代表，三十日下午应邀在中国国家知识产权局相聚一堂，与中方官员就知识产权相关话题进行面对面的沟通与交流。

　　据悉，这一冠名为“国家知识产权局业务沟通会”的方式，还是中国官方首次邀请外国驻华官员及在华企业进行知识产权话题的面对面沟通。

　　中方官员称，这一面对面沟通知识产权的会议，今后将适时举行，至少每半年召开一次，旨在增强中国国家知识产权局工作的透明度，提高办事效率，以更好地为社会提供知识产权方面的公共服务。

　　在今天下午的第一次知识产权业务沟通会上，外国驻华官员及在华企业代表问题相对集中于缩短专利审查周期、《专利法》修改情况、专利侵权处理等方面。

　　中方官员对此一一予以解答后透露说，为修改《专利法》而启动的二十个专题研究今年二月份已经完成，并提交出三十七份课题报告，国家知识产权局将在此基础上，于今年年底前向国务院提交《专利法》修改草案，力争明年纳入国家立法计划。

　　另外，中国国家知识产权局今年新招审查员八百多名，可以期望在未来三到五年内，一些技术领域的专利审查周期将会进一步缩短。(完)